2020年中國(guó)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模及發(fā)展趨勢(shì)分析

作者： 2020年09月17日 來(lái)源：全球化工設(shè)備網(wǎng) 瀏覽量：
字號(hào)：T | T
在晶圓制造中占25%的比重　　沉積是半導(dǎo)體制造工藝中的一個(gè)非常重要的技術(shù)，其是一連串涉及原子的吸附、吸附原子在表面擴(kuò)散及在適當(dāng)?shù)奈恢孟戮劢Y(jié)，以漸漸形成薄膜并成長(zhǎng)的過(guò)程。在一個(gè)新
　　在晶圓制造中占25%的比重
　　沉積是半導(dǎo)體制造工藝中的一個(gè)非常重要的技術(shù)，其是一連串涉及原子的吸附、吸附原子在表面擴(kuò)散及在適當(dāng)?shù)奈恢孟戮劢Y(jié)，以漸漸形成薄膜并成長(zhǎng)的過(guò)程。在一個(gè)新晶圓投資建設(shè)中，晶圓廠80%的投資用于購(gòu)買(mǎi)設(shè)備。其中，薄膜沉積設(shè)備是晶圓制造的核心步驟之一，占據(jù)著約25%的比重。
 
圖表1：半導(dǎo)體設(shè)備投資占比情況(單位：%)
　　薄膜沉積工藝主要有原子層沉積(ALD)、物理式真空鍍膜(PVD)、化學(xué)式真空鍍膜(CVD)等，其中ALD又是屬于CVD的一種，是目前最先進(jìn)的薄膜沉積技術(shù)。CVD，即使用金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏葻岱纸猓瑲溥€原在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等材料;PVD是將原子從原料靶材上濺射出來(lái)，利用物理過(guò)程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，沉積形成導(dǎo)電電路。
 
圖表2：三種半導(dǎo)體薄膜沉積工藝比較
全球市場(chǎng)規(guī)模至2025年有望達(dá)到340億美元
 
　　近年來(lái)，全球薄膜沉積設(shè)備持續(xù)穩(wěn)定發(fā)展，根據(jù)Maximize Market Research數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，全球半導(dǎo)體薄膜沉積市場(chǎng)2017年市場(chǎng)空間約為125億美元，預(yù)計(jì)到2025年將達(dá)到340億美元，期間以年復(fù)合13.3%的速度增長(zhǎng)。其中市場(chǎng)將以存儲(chǔ)、AMOLED顯示屏以及太陽(yáng)能電站等新興應(yīng)用需求的增加為驅(qū)動(dòng)薄膜沉積市場(chǎng)增長(zhǎng)的核心動(dòng)力。
 
圖表3：2017-2025年全球薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)(單位：億美元，%)
CVD占主導(dǎo)地位
 
　　從半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備主要類(lèi)型來(lái)看，CVD設(shè)備占據(jù)著57%的薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)，領(lǐng)先于其他類(lèi)型設(shè)備;其次是PVD，占比為25%;ALD及其他鍍膜設(shè)備占據(jù)著18%的市場(chǎng)份額。
 
圖表4：2019年全球半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)格局(單位：%)
國(guó)際巨頭占領(lǐng)細(xì)分市場(chǎng)
 
　　從各細(xì)分市場(chǎng)來(lái)看，在CVD設(shè)備市場(chǎng)中，應(yīng)用材料全球占比約30%，加上泛林半導(dǎo)體的21%和TEL的19%，三大廠商占據(jù)了全球70%的市場(chǎng)份額;在ALD設(shè)備市場(chǎng)中，ALD設(shè)備龍頭TEL和ASM分別占據(jù)了31%和29%的市場(chǎng)份額，剩下40%的份額由其他廠商占據(jù);在PVD設(shè)備市場(chǎng)中，應(yīng)用材料則基本壟斷了PVD市場(chǎng)，占85%的比重，處于絕對(duì)龍頭地位。
 
圖表5：2019年薄膜沉積各細(xì)分設(shè)備品牌占比情況(單位：%)
國(guó)產(chǎn)化率僅為2%
 
　　從國(guó)內(nèi)市場(chǎng)看，中國(guó)薄膜沉積設(shè)備龍頭有北方華創(chuàng)和沈陽(yáng)拓荊。其中，北方華創(chuàng)產(chǎn)品線(xiàn)覆蓋CVD、PVD和ALD三類(lèi);沈陽(yáng)拓荊主攻CVD和ALD，目前技術(shù)儲(chǔ)備均達(dá)到28/14nm節(jié)點(diǎn)。但從國(guó)內(nèi)設(shè)備存量市場(chǎng)來(lái)看，我國(guó)薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率僅為2%，98%的設(shè)備來(lái)源于進(jìn)口。
 
　　為加速薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)化腳步，近年來(lái)北方華創(chuàng)和沈陽(yáng)拓荊兩家公司不斷加大研發(fā)力度，也分別在技術(shù)儲(chǔ)備以及客戶(hù)認(rèn)證方面取得了良好進(jìn)展。2020年4月7日，北方華創(chuàng)宣布，其THEORISSN302D型12英寸氮化硅沉積設(shè)備進(jìn)入國(guó)內(nèi)集成電路制造龍頭企業(yè)。該設(shè)備的交付，意味著國(guó)產(chǎn)立式LPCVD設(shè)備在先進(jìn)集成電路制造領(lǐng)域的應(yīng)用拓展上實(shí)現(xiàn)重大進(jìn)展。
 
圖表6：中國(guó)薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)化情況(單位：%)
圖表7：中國(guó)薄膜沉積設(shè)備相關(guān)領(lǐng)先企業(yè)技術(shù)進(jìn)展情況
全球化工設(shè)備網(wǎng)（http://m.seenwhilewandering.com ）友情提醒，轉(zhuǎn)載請(qǐng)務(wù)必注明來(lái)源:全球化工設(shè)備網(wǎng)！違者必究.

標(biāo)簽：

分享到：
免責(zé)聲明：1、本文系本網(wǎng)編輯轉(zhuǎn)載或者作者自行發(fā)布，本網(wǎng)發(fā)布文章的目的在于傳遞更多信息給訪問(wèn)者，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)，同時(shí)本網(wǎng)亦不對(duì)文章內(nèi)容的真實(shí)性負(fù)責(zé)。
2、如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問(wèn)題，請(qǐng)?jiān)?0日內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，我們將在第一時(shí)間作出適當(dāng)處理！有關(guān)作品版權(quán)事宜請(qǐng)聯(lián)系：+86-571-88970062