光電所在高數(shù)值孔徑物鏡波像差測(cè)量技術(shù)研究中取得進(jìn)展

作者: 2016年04月21日 來(lái)源: 瀏覽量:
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中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所邢廷文課題組在高數(shù)值孔徑物鏡波像差測(cè)量技術(shù)的研究中取得進(jìn)展:提出了一種基于二維衍射光柵的高數(shù)值孔徑物鏡波像差測(cè)量方法,指出了高數(shù)值孔徑物鏡波像差測(cè)量時(shí)涉及的幾個(gè)特殊問(wèn)題和解決方

  中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所邢廷文課題組在高數(shù)值孔徑物鏡波像差測(cè)量技術(shù)的研究中取得進(jìn)展:提出了一種基于二維衍射光柵的高數(shù)值孔徑物鏡波像差測(cè)量方法,指出了高數(shù)值孔徑物鏡波像差測(cè)量時(shí)涉及的幾個(gè)特殊問(wèn)題和解決方法。該方法還可以應(yīng)用于短波(如深紫外(DUV)、極紫外(EUV)、X射線等)光學(xué)系統(tǒng)的波像差測(cè)量。

  波像差是評(píng)價(jià)光刻投影物鏡性能的一個(gè)重要指標(biāo),直接影響光刻機(jī)整機(jī)的分辨率、臨界尺寸、成像對(duì)比度和工藝窗口等。光刻投影物鏡具有數(shù)值孔徑大、工作距離短、波像差極小等特點(diǎn),45 nm節(jié)點(diǎn)光刻投影物鏡要求實(shí)現(xiàn)亞納米量級(jí)精度波像差測(cè)量。這類高精度測(cè)量的難點(diǎn)在于高精度相位測(cè)量方法的研究、關(guān)鍵器件的制備、測(cè)量環(huán)境影響的控制以及系統(tǒng)誤差的高精度標(biāo)定。

  研究人員分析了振幅型棋盤光柵的遠(yuǎn)場(chǎng)衍射特性,其具有更高的衍射效率和更少的衍射級(jí),以此為基礎(chǔ)設(shè)計(jì)了一種基于振幅型棋盤光柵的二維剪切干涉儀,并使用二維傅里葉變換和波前重構(gòu)方法準(zhǔn)確復(fù)原出被測(cè)波前,實(shí)現(xiàn)了高數(shù)值孔徑物鏡的波像差測(cè)量。研究人員進(jìn)一步分析和指出高數(shù)值孔徑物鏡波像差測(cè)量時(shí)面臨的問(wèn)題:光瞳坐標(biāo)畸變、光柵方程非線性、光瞳照度衰減,光瞳坐標(biāo)畸變會(huì)影響波前重構(gòu)精度,光柵方程非線性會(huì)引入一定的系統(tǒng)誤差,光瞳照度衰減會(huì)導(dǎo)致干涉圖邊緣信噪比降低、邊界提取困難。通過(guò)實(shí)際測(cè)量數(shù)值孔徑為0.6的顯微物鏡的波像差,驗(yàn)證了波像差測(cè)量方法和幾個(gè)特殊問(wèn)題,提出了相應(yīng)的修正和改善方法。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:使用光瞳坐標(biāo)平均值時(shí)波像差的測(cè)量重復(fù)性(3σ)可以達(dá)到3.7 mλ,如果改善照明條件,重復(fù)性還有進(jìn)一步提升的空間。

  該工作得到了國(guó)家重大專項(xiàng)子課題基金的支持。

光電所在高數(shù)值孔徑物鏡波像差測(cè)量技術(shù)研究中取得進(jìn)展



 

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